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                常用的去离子水设备有哪些工艺流程?

                文章出处:责任编辑:人气:-发表时间:2015-10-30 13:28【

                     随着现代化产品的要求越来越精〗细化,对于生产零部件的水质要求也非常高,普通的纯水已经无法达到生产的要求,接下来看一下常用的♂去离子水设备有哪些工艺流程?

                一、去离子水设备工艺


                    第一种:预处理(即砂炭过滤器+精ξ密过滤器)+反渗透+混床工艺.这种方法是目前『采用最多的,因为反渗透投资成本也不算高,可以去除90%已上的水中离子,剩下的离子再通】过混床交换除去,这样可使出∩水电导率:0.06左右。这样是目前流行的方法。

                  

                    第二种:前处理与第二种方法一样使用反渗透装置,只是后◥面使用的混床采用EDI连续除盐膜块代替,这样就不用酸碱再生树脂,而是用电再█生。这就彻◣底使整个过程无污染了,经过处理后的水质可达到15M以上。但这这种方法的前期投资比较多,运行成本低。

                1.5吨EDI反渗透设备


                二、去离子水设备工艺说明

                 

                  1、反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制〇备去离子水的方式,其基本工艺流『程为:

                  原水→多介质●过滤器→活性▃炭过滤器→精密过滤↘器→反渗透设备→混床→纯水箱→精◆密过滤器→用水点(特点:污染小,自动化程度高,初期投入↘中等,价格适中)

                  

                    2、反渗透设备与电去离子(EDI)设♀备进行搭配制备去离子水的的方式,这是一种制取超纯水的新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯★水制备工艺,其ξ 基本工艺流程为:

                 

                   原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密↓过滤器→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→精密过滤器→用水点(特点:环保,自动化程度高,初期㊣投入大,价格相对比较贵)

                0.5吨去离子水设备


                三、去离子水设备应用范围

                  1、电子材料加工【←、单晶硅半导体、半导体材料、液晶显示器⊙、计算机硬盘、印刷电路板、集成电路。

                  2、制药︽化工行业、化工行业、食品工业行业〒用水等。

                  3、汽车、家电表面电泳漆清洗用水及其它高科技精密产品。


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